某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图一
某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图二
某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图三
某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图四
某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图五
某手机公司总部办公及科研开发中心幕墙图纸-图六
本工程是一类高层办公楼,位于武汉,主楼21层,副楼16层,地下1层,总建筑面积:53807㎡,本工程为框架剪力墙结构,本工程部分为附建式甲类人防地下室工程,抗力级别为常6级 核6级,采用预应力混凝土管桩基础,基础设计等级为甲级,抗震设防烈度为6度。