上传于:2023-12-12 08:59:56
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一款用于DRAM、NAND和NOR闪存、嵌入式存储器和逻辑器件制造的高能离子注入机。它可以提供从10keV到4MeV范围的能量。该注入机将RFLinac高能束斑技术与高速、一流的单晶圆终端平台结合在一起。先进的束斑技术可以保证在晶圆上所有离子束的角度相同,可以获得高质量的工艺控制和最大化成品率。...

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