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CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相淀积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。本微型化学气相沉积原位池,是一种微型的CVD设备,包含了进气系统,抽气系统、加热系统等。该装置主要用于材料生长的原位机理研究,可以放置在光学镜头下面,研究...
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