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工程资料库 \ 2立方每小时超纯水制备项目工艺图

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2立方每小时超纯水制备项目工艺图

上传于：2023-10-16 16:05:40

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5分

本图纸出水用于半导体材料，电阻率要求达到18.25MΩ·cm@25℃。设计采用两级反渗透+EDI+一级抛光混床的工艺，以确保出水水质达到用户要求。超纯水系统具体工艺为：“多介质过滤器+活性炭过滤器+软化过滤器+保安过滤器+一级反渗透系统+二级反渗透系统+EDI系统+一级抛光混床+终端微滤”的工艺流程。系统出力：预处理水量：≥5m3/hr，二级反渗透系统最终出力为2.3t/h，EDI+一级抛光混床...

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