上传于:2023-10-16 16:05:40
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本图纸出水用于半导体材料,电阻率要求达到18.25MΩ·cm@25℃。设计采用两级反渗透+EDI+一级抛光混床的工艺,以确保出水水质达到用户要求。超纯水系统具体工艺为:“多介质过滤器+活性炭过滤器+软化过滤器+保安过滤器+一级反渗透系统+二级反渗透系统+EDI系统+一级抛光混床+终端微滤”的工艺流程。系统出力:预处理水量:≥5m3/hr,二级反渗透系统最终出力为2.3t/h,EDI+一级抛光混床...

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