上传于:2023-10-23 09:03:43
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此图纸是多晶硅冷氢化PID工艺流程图CAD图,图纸可采用CAD2009版及以上版本打开。冷氢化:tcs+硅粉+氢气反应成三氯氢硅,转化率在20%左右,但是硅粉的加入是间歇性的,所以导致生产也是间歇性的,冷氢化的温度控制在500℃左右,但是操作压力为2mpa,耗电量较热氢化低3kwh/kg。...

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