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在Si、Ta、SiC、Ti四种不同的基底上通过热丝化学气相沉积法分别生长了掺硼金刚石(BDD)薄膜。试验对BDD膜层的 微观形貌、电极的电化学性能进行了研究。四种基底的BDD电极均具有较宽的电位窗口;Ta-BDD和SiC-BDD晶体形貌完整; Ta-BDD和Ti-BDD具有较好的膜基附着力,具有较长的寿命。
不同基底 BDD 电极对模拟染料废水的降解脱色试验-图一
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