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该工程为某国驻华大使馆,位于北京市某区内,基底埋深为5m,局部电梯井6m。拟建场地在15m勘探深度内的地质构成为:地表为人工填土,以下为第四纪冲击层,自上而下分述如下: ①1杂填土:本层厚度0.50-2.70m,层底标高34.84-37.57m。 ①2素填土:本层厚度0.40-1.80m,层底标高33.94-36.83m。 ②粉质粘土:本层厚度9.60-10.80m,层底标高26.12-27.53m。
某驻华大使馆基坑工程详细施工组织设计方案-图一
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