晶圆光刻机机管路排布和电气原理图

扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。...

上传人: 上传时间:2023-12-12 08:59:51 文档格式:dwg 收藏数:0 页数: 0 评论数: 0
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