上传于:2023-12-12 09:00:42
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匀胶显影机是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。匀胶显影机一般由四部分组成。第一部分是晶圆盒工作站(wafercassettestation),晶圆盒在这里装载到机器上。机械手(robotarm)从晶圆盒中把晶圆抽出来,传送到工艺处理部分(processblock),即第二部分。工艺处理部分是匀胶显...

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