集团研发大楼位于,属框架剪力墙结构。地下1层,建筑面积14749.2㎡,±0.000为绝对标高23.000m,上部结构为地下室顶板上的23层主楼及1~3层裙楼,结构高度99.5m,建筑高度99.8m。地下室基础形式为桩筏板基础,底板面标高为-7.30m。底板厚度均为450厚;主楼部分承台大部分为多桩承台,局部4桩承台;地下室其他部分结构承台大部分为3桩及4桩承台,少数2桩及单桩承台,局部多桩承台。主楼部分承台厚度为2200~2400㎜,地下室其他部分承台厚度为1500㎜。基础梁截面主要有2种,分别为450×1400、600×1600。主楼电梯基坑底标高为-8.600m。
框剪结构研发中心工程土方开挖施工方案-图一
框剪结构研发中心工程土方开挖施工方案-图二
框剪结构研发中心工程土方开挖施工方案-图三
框剪结构研发中心工程土方开挖施工方案-图四
框剪结构研发中心工程土方开挖施工方案-图五