上传于:2023-10-17 14:40:24
0
5分

在半导体的制造过程中,需要图形转移工艺,其中包括光刻工艺。光刻工艺是一种图形复印技术,是半导体制造工艺中一项关键的技术。简单来说,光刻受到照相技术的启发,利用光刻胶感光特性,将光刻掩膜板的图形精确地复印到涂在晶圆上的光刻胶上。在将光刻胶旋涂到晶圆之前,因为晶圆表面进行清洗,所以需要对晶圆表面进行烘干,但是目前的烘干装置存在以下缺点:1、利用晶圆转动不断的搅动烘干箱内的热气,使得气流紊乱,但是晶圆还...

点击立即下载源文件

特别声明:本资料属于用户上传的共享下载内容,仅只用于学习不可用于商业用途,如有版权问题,请及时 联系站方删除!

收藏
分享

微信扫码分享

点击分享

点击查看更多
全部评论 我要评论
暂无评论